四(二甲基氨基)锆(IV) | 19756-04-8

锆类氨基金属化合物主要用于CVD、ALD、等离子体增强原子层沉积(PEALD)工艺，是生产ZrO2的前驱体；
ZrO2在45nm晶体管的制备中代替二氧化硅，可以显著减少漏电量，还是COMS和动态存储的高k绝缘材料，是目前解决动态存储和高清显示技术难题的最优选材料之一；
可作阻变存储器的介质层前驱体；
可作锂离子电池正极包覆沉积前驱体。